JSR расширяет выпуск EUV-фоторезистов рядом с мощностями TSMC на Тайване. Японская компания
строит
первый местный завод по производству таких материалов, которые стали критически важными для техпроцессов 2 нм и ниже.
Фоторезисты используются при EUV-литографии для переноса схем на кремниевые пластины, и именно они становятся одним из главных ограничений дальнейшего масштабирования чипов. Сейчас рынок таких материалов почти полностью контролируют японские компании.
JSR, занимающая около четверти мирового рынка фоторезистов, создала совместное предприятие с тайваньскими Wah Lee Industrial и LCY Chemical. Новый завод в уезде Юньлинь планируют запустить в 2028 году. Предприятие будет совместно с TSMC разрабатывать материалы для будущих поколений EUV-процессов.
Также компания запускает в Южной Корее первое производство MOR-фоторезистов на основе оксидов металлов — это одно из ключевых направлений для следующего этапа EUV-литографии. Технологию JSR получила после покупки стартапа Inpria за $514 млн в 2021 году.
